Filtrationssystem für die Entwicklersektion an Plattenprozessoren TYPE 3

Dieses bewährte, innovative System reinigt ständig die Entwicklersektion und ermöglicht dadurch eine erhebliche Verlängerung der Produktionsverfügbarkeit des Plattenprozessors. Die Reinigungsanlage eignet sich zum Einsatz bei der Verarbeitung von Fotopolymer- und Thermaldruckplatten, sowie für konventionelle Platten.

Technische Daten Abmessungen:
500 x 350 x 670 mm (L x B x H)

Elektrischer Anschluss:
1 / N / PE 220/240V 50/60 Hz

Das von LOGOTEC angebotene System dient der Wasserenthärtung vor Verwendung in Plattenprozessoren. Die Wasseraufbereitungsmethode basiert auf dem Ionentauschverfahren. Das hierbei enthärtete Wasser wird anschließend exakt auf die gewünschte Wasserhärte gebracht. Ein Modul kann an mehrere Plattenprozessoren angeschlossen werden. Die kompakte Bauweise, sowie die einfache und schnelle Installation zeichnen das System aus. Es ist kein Filtertausch erforderlich. Das System verfügt über eine Einrichtung zur Regeneration des Filters.

Technische Daten Abmessungen:
350 x 550 x 1150 mm (L x B x H)

Elektrischer Anschluss:
1 / N / PE 220/240V 50/60 Hz